脉冲激光沉积简介
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【设备主要用途】
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
脉冲激光沉积原理
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脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，pld300a型激光镀膜设备生，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。
脉冲激光沉积细节介绍
很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧气压力（>100 torr）下冷却是有利的。所有pioneer 系统设计的工作压力范围。从它们的额定初始压力到大气压力。这也有益于纳米粒子的生成。
pioneer pld 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的均匀性，pld300a型激光镀膜设备公，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。浅的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。
为了避免使用昂贵的与氧气兼容的真空泵流体，消除油的回流对薄膜质量的影响，pld300a型激光镀膜设备厂，所有pioneer 系统的标准配置都采用无油真空系统。
我们的研究表明靶和基片的距离是获得较佳薄膜质量的关键参数。pioneer 系统采用可变的靶和基片的距离，对沉积条件进行较大的控制。
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