脉冲激光镀膜设备激光镀膜设备
pld450型脉冲激光镀膜介绍
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主要用途：　　
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。　　
系统组成:　　
主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。
脉冲激光沉积简介
随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。长期以来，人们发明了多种制膜技术和方法：真空蒸发沉积、离子束溅射、磁控溅射沉积、分子束外延、金属有机化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。上述方法各有特点，并在一些领域得到应用。但由于其各有局限性，激光镀膜设备哪家好，仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展，激光镀膜设备，特别是高功率脉冲激光技术的发展，脉冲激光沉积（pld）技术的特点逐渐被人们认识和接受
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脉冲激光沉积简介
【设备主要用途】
pld450a型脉冲激光沉积设备采用pld脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
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